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PRODUCT

GMF

GMF 사업부

  • GOLD
  • NI-P
  • Sn
  • COPPER
  • Cr
  • E/T NI
  • 휴대폰 및 가전제품 표면처리
  • 휴대폰 통신관련 부품 표면처리 (GOLD, NI-P, SN, Copper, Cr+3, E/T Ni)
  • 일반 가전부품 표면처리 (E/T Ni ,Copper ,Cr)
  • 장식품, Accessory 도금 (Au, Ag, Cu , Cr+3)

GMF 약품 소개

D/F , PSR 공정 (Etching / 현상)

품  명

약품명

비율(%)

작 업 조 건

특  징

YSP-202

Micro Etch

첨가제

YSP-202

2~4

YSP-202: 2~4%(v/v)

작업온도 : 25~35℃ (30)

1. PCB 제조공정에서 Copper 표면처리의 Micro-Etching 약품으로서

   적은양으로 높은 Etch Rate와 우수한 과산화수소 안정성을 갖고 있

   는 과산화수소/황산계의 화학연마액

YSP-302

Micro Etch

첨가제

YSP-302

2~4

YSP-302: 2~4%(v/v)

작업온도 : 25~35℃ (30)

1. PCB 제조공정에서 Copper 표면처리의 Micro-Etching 약품으로서

   적은양으로 높은 Etch Rate와 우수한 과산화수소 안정성을 갖고 있

   는 과산화수소/황산계의 화학연마액

YSP-202A

(1액형 Micro Etch)

YSP-202A

20~30

YSP-202A: 20~30%(v/v)

작업온도 : 25~30℃ (30)

1. PCB 제조공정에서 Copper 표면처리의 Micro-Etching 약품으로서

   적은양으로 높은 Etch Rate와 우수한 과산화수소 안정성을 갖고 있

   는 과산화수소/황산계의 일액형 화학연마액

YSP-210

(KOH현상액)

YSP-210

2

YSP-210 : 20ml/L

작업온도 : 25~35℃ (30)

1. 고해상도를 유지한다.

2. 액상타입이라 사용이 편리하다.

3. 일반적인 소다회 보다 사용 기간이 길다.

YSP-220

(NaCO3현상액)

YSP-220

2

YSP-220 : 20ml/L

작업온도 : 25~35(30)

1. 고해상도를 유지한다.

2. 액상타입이라 사용이 편리하다.

3. 일반적인 소다회 보다 사용 기간이 길다.