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R&D

R&D History

R&D History
1999 ~ Now

2017 ~ 2021

2021
  • 레진 및 SCUM 세정약품 개발 (알칼리/산)
    유기산 소프트에칭 약품개발 (Solder Mask / Plugged Hole 전처리용)
2020
  • 포토마스크 액상 PR/DFR 박리약품 개발
2019
  • Burr 제거 및 고조도 소프트에칭 개발
2018
  • 광택 고인 무전해니켈
2017
  • PI(Poly Imide) 도금 프로세스 개발

2011 ~ 2016

2016
  • 화학니켈 염화욕 개발
2015
  • Rack 박리제 개발
2013
  • PCB 소프트에칭, 하프에칭 개발
2012
  • 일본 Ecosystem과 기술협력, 고밀도 PCB제조용 약품개발
2011
  • 염료형, 비염료형 유산동 광택제 개발
    아연도금 광택제 개발

2003 ~ 2010

2010
  • PCB도금용 황산동 전기도금, 비염료형 광택제 개발
    니켈도금 광택제 Proess 개발
2009
  • 무전해 니켈 도금 약품 개발
    3가크롬 염화욕 전기도금액(장식용) 개발
2007
  • E.N.I.G Process 개발
2005
  • PCB용 무전해 동도금
    전후 처리제 개발

1999 ~ 2004

2004
  • R to R 공정용 금도금 약품 개발
    금속탈지제 개발
2003
  • 이중 사출용 화학 니켈 개발
    중금속이 없는 무전해 니켈 개발
2002
  • 무전해 금도금 개발
2001
  • 니켈 광택제(광택, 반광, 무광) 개발
2000
  • 크롬 첨가제 개발
    ABS 도금 Process 개발